荷蘭ISTEQ公司TEUS系列EUV光源

簡要描述：ISTEQ公司開發(fā)了一種基于激光產(chǎn)生等離子體（LPP）的EUV光源。該光源具有ji高的亮度和ji高的穩(wěn)定性。它采用可自刷新的材料，無需中斷和更換燃料盒，因此持續(xù)運行時間極長。
ISTEQ公司為LPP光源開發(fā)的燃料是針對特定應(yīng)用的光譜范圍而設(shè)計的。然而，對于掩模檢查的應(yīng)用，公司開發(fā)了一種高頻錫旋轉(zhuǎn)靶，已在全球范圍內(nèi)獲得專li。荷蘭ISTEQ公司TEUS系列EUV光源

產(chǎn)品型號：TEUS S-100
更新時間：2026-01-07
訪問量：2444

產(chǎn)品分類

Product classification

光譜影像類

雙單色儀光譜儀成像相機及鏡頭光源超連續(xù)譜激光器白光光源紅外觀察儀及防護鏡單色儀

相關(guān)文章

產(chǎn)品簡介

品牌	其他品牌	價格區(qū)間	10萬-15萬
照射方式	內(nèi)照式	光源種類	氙燈光源
應(yīng)用領(lǐng)域	醫(yī)療衛(wèi)生,化工,電子/電池,航空航天,電氣

荷蘭ISTEQ公司TEUS系列EUV光源

產(chǎn)品介紹：

ISTEQ公司開發(fā)了一種基于激光產(chǎn)生等離子體（LPP）的EUV光源。該光源具有ji高的亮度和ji高的穩(wěn)定性。它采用可自刷新的材料，無需中斷和更換燃料盒，因此持續(xù)運行時間極長。

ISTEQ公司為LPP光源開發(fā)的燃料是針對特定應(yīng)用的光譜范圍而設(shè)計的。然而，對于掩模檢查的應(yīng)用，公司開發(fā)了一種高頻錫旋轉(zhuǎn)靶，已在全球范圍內(nèi)獲得專li。

產(chǎn)品特點：

·高亮度以及出色的穩(wěn)定性

·最少的碎片

·ji高的正常運行時間

·高占空比和交鑰匙操作

·用戶友好的自動化協(xié)議，確保系統(tǒng)平穩(wěn)運行，沒有中斷的風險。

產(chǎn)品應(yīng)用：

·掩模和表面檢查：

·圖案掩模檢測 (PMI)

·區(qū)域掩模檢測 (AIMS)

·掩模空白檢測 (MBI)

·EUV 掃描儀檢

·材料科學

·晶圓檢查

TEUS 系列激光等離子體光源

型號參數(shù)：

型號	TEUS S-100	TEUS S-200	TEUS S-400
激光平均功率100	400
脈沖重頻25或50或100或EUV功率立體角0.05
等離子體尺寸m	60或≤ 4≤ (13.5 nm±2 % @2π·sr or 1.6% @2π·sr
碎片處理系統(tǒng)后角內(nèi)光通量11 或22 或44 或W/mm2·sr	80或≥≥ 280	310或≥ 3% rms
在10%	不少于4個月	不少于24/7運行狀態(tài)下，使用特殊膜過濾器情況下，收集器壽命下降18個月	不少于4個月
維護時間間隔	- 1 天	- 2天	- 1天
***	3個月	5 kW	10.5 kW
尺寸（長×寬×高）1500×1200
重量，包括激光組件770
房間潔凈度等級	10升15升25升/分鐘

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